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　　直流電弧用發(fā)射光譜儀與火花源光電直讀光譜儀在結(jié)構(gòu)上的主要區(qū)別是光源的不同，它采用直流電弧作激發(fā)光源。
 

　　直流電弧發(fā)射光譜儀所用的直流電弧光源，直流電弧光譜儀的電弧激發(fā)座基于人性化設(shè)計，上電極可方便地進(jìn)行旋轉(zhuǎn)移位，以便進(jìn)行樣品電極的更換，將新的樣品電極從頂端或底端插入，并自動進(jìn)行精確定位。
 

　　新的激發(fā)座采用最新的穩(wěn)流電源用于提升激發(fā)穩(wěn)定性，另外斯托伍德氣室可用于降低CN鍵產(chǎn)生的光譜干擾。
 

　　直流電弧用發(fā)射光譜儀相比于傳統(tǒng)的基于照相版技術(shù)的直流電弧光譜儀，在儀器性能和分析速度上均有一個質(zhì)的飛躍。直流電弧電流可控，可進(jìn)行實時背景校正，實時內(nèi)標(biāo)校正。
 

　　儀器具有全譜讀取功能，提供定性定量分析，可實現(xiàn)譜圖疊加和差減?？蓪?fù)雜樣品進(jìn)行直接分析，而無需樣品消解過程，這些樣品諸如：陶瓷和玻璃，金屬氧化物、碳化物、硼化物以及氮化物，難溶粉末如SiC，貴金屬及其它高純金屬，石墨粉末，地質(zhì)原料，核原料-氧化鈾、氧化钚，土壤、淤泥、煤灰，油漆等。
 

　　儀器具有很高的靈敏度，通常對于固體材料的檢出限為亞ppm級，非常適合高純銅，鎳以及貴金屬等的研究，實現(xiàn)高純金屬分析。
 

　　接下來讓我們再來了解一下直流電弧用發(fā)射光譜儀有哪些安裝條件吧。
 

　　①實驗室內(nèi)的環(huán)境溫度要控制在10-30℃，相對濕度控制在20%-80%，確保無腐蝕性氣體。
 

　　②氬氣的供給純度要達(dá)到99.999%以上，不純氬氣中雜質(zhì)影響激發(fā)效果，降低元素的光強值，分析結(jié)果出現(xiàn)偏差。
 

　?、圯斎雽嶒炇业碾娫匆釉诮涣鞣€(wěn)壓器上，輸出電壓接到直讀光譜儀器上，電源電壓波動范圍控制在-5%～+5%以內(nèi)。
 

　　做好樣品分析準(zhǔn)備。 設(shè)備和PC電源電壓選擇開關(guān)要設(shè)置適當(dāng)?shù)妮斎腚妷?，過濾量要在三分之一，氬氣壓力設(shè)置為0.5MPa。光譜儀打開后少穩(wěn)定一個小時。激發(fā)試樣看激發(fā)點是否正常，做程序修正，觀察數(shù)據(jù)穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。根據(jù)情況決定是不是要做光譜校正和標(biāo)準(zhǔn)化。
 

　　正確進(jìn)行樣品分析。
 

　　認(rèn)真制備試樣 樣品切割和磨樣處理后，激發(fā)面能密封住激發(fā)孔，樣品表面清潔，無裂紋、砂眼、氣孔等缺陷，樣品和激發(fā)板不能漏氣。
 

　　激發(fā)樣品 樣品制備好后在激發(fā)臺激發(fā)3次，異常點，留三組數(shù)據(jù)取平均值。